深度思考:芯片制造到底哪里卡了脖子?|晶体管_网易订阅
2020年10月29日 · 通往超精确密抛光工艺之巅,路阻且长,亟待攻克的核心技术。01 光刻机精确度,芯片制造的卡脖子环节 在制约集成电路技术发展的有四大要素:功耗、工艺、成本和设计复杂度,其中光刻机就是一个重中之重,核心技术中的核心。这也是另一大卡脖子的关键!
了解更多2020年10月29日 · 通往超精确密抛光工艺之巅,路阻且长,亟待攻克的核心技术。01 光刻机精确度,芯片制造的卡脖子环节 在制约集成电路技术发展的有四大要素:功耗、工艺、成本和设计复杂度,其中光刻机就是一个重中之重,核心技术中的核心。这也是另一大卡脖子的关键!
2020年10月29日 · 通往超精确密抛光工艺之巅,路阻且长,亟待攻克的核心技术。01 光刻机精确度,芯片制造的卡脖子环节 在制约集成电路技术发展的有四大要素:功耗、工艺、成本和设计复杂度,其中光刻机就是一个重中之重,核心技术中的核心。这也是另一大卡脖子的关键!
了解更多2024年1月15日 · 在集成电路制造过程中,为了满足产品薄的要求,晶圆需经过背面磨削工艺变薄。磨削力要均匀分布,工艺参数需严格控制,以减小表面粗糙度和变形。超精确细磨削后常附加CMP工艺步骤。测量系统可快速测量硅晶片区域的粗糙度、翘曲度和缺陷。
了解更多2023年12月22日 · 光伏太阳能电池板的核心是太阳能电池,分为单晶和多晶两种。目前单晶太阳能电池片是市场主流,未来趋势是182mm和210mm成为主流。主流的太阳能电池片生产工艺有Perc、NTopcon和NHIT。未来可能逐步淘汰158.75mm和166mm尺寸,以182mm和210mm为
了解更多2024年11月14日 · 一、固态电池技术以及产业链全方位景梳理 Q:对于全方位固态电池,技术层面上的主要关注点有哪些? A:对于全方位固态电池技术层面的关注点主要包括材料体系和工艺设备。材料体系的核心是固态电池材料,尤其是固态电解质,常见的大类有氧化物、聚合物和乳硫化物。
了解更多2020年7月22日 · 气体是晶圆制造中第二大耗材。根据 2018 年销售数据,制造材料中,硅晶圆作为半导体的原材料, 占比最高大,达到 37%,销售额为 121 亿美元。电子气体由于在制造过程中使用的步骤较多,所以消耗量 远远高于其他材料,占比为 13%,销售额达到 43 亿美元。
了解更多2018年8月27日 · HVPE(氢化物气相外延)技术主要应用于 GaN 衬底生产。 LPE(液相沉积)技术主要用于硅晶圆,目前已基本被气相沉积技术所取代。MBE 与 MOCVD 技术对比 晶圆尺寸: 技术发展进程不一 硅晶圆尺寸最高大达 12 寸, 化合物半导体晶圆尺寸最高大为 6 英寸。
了解更多2024年12月17日 · TGV 有助于提高层间连接密度,同时可提高高速电路的信号完整性。 连接间距的减小可减少信号丢失和干扰,从而提高整体性能。TGV的集成还消除了对单独互连层的需求,从而简化了制造工艺。然而,尽管TGV具有诸
了解更多2020年12月7日 · 半导体设备是半导体产业的技术先导者,芯片设计、晶圆制造 和封装测试等需在设备技术允许的范围内设计和制造,设备的技术进步的步伐又反过来推动
了解更多2024年5月23日 · 衬底(substrate)是由半导体单晶材料制造而成的晶圆片,衬底可以直接进入晶圆制造环节生产半导体器件,也可以进行外延工艺加工生产外延片。 衬底的类型有哪些,分别用在哪些产品中? 芯片种类繁多,并不是只有单晶硅片做衬底,不同类型的衬底根据其特性被用于不同
了解更多概览集成电路板的制作流程是什么?晶圆的生产工艺流程:芯片生产工艺流程:2024年10月12日 · 晶圆切割是晶圆加工中的关键步骤,它涉及到将大尺寸的单晶硅锭切割成小块的晶圆片,以便进一步加工。 切割技术的基本原理是利用机械或激光的方式在晶圆表面形成微小的切割线,然后通过物理或化学方法使晶圆沿着这
了解更多2023年11月2日 · 有图晶圆 3、CP系列台阶仪 CP系列台阶仪是一款超精确密接触式微观轮廓测量仪器。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC,具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率,同时,其集成了超低噪声信号采集、超精确细运动控制、标定算法等核心技术,使得
了解更多2024年10月25日 · 晶圆是制造 各种半导体器件的基底。从 苏州研材微纳科技有限公司 网站首页 关于我们 ... 晶圆的尺寸大小也对半导体产业有着重要影响。随着技术的不断进步的步伐,晶圆的尺寸逐渐增大,从早期的 4 英寸、6 英寸发展到如今的 8 英寸、12
了解更多2022年2月11日 · 半导体集成电路是将许多元件集成到一个芯片中以 处理和存储各种功能的电子组件。 晶圆是指将硅(Si)、砷化镓(GaAs)等生成的单 晶柱切成薄片的圆盘。大部分晶圆都是由沙子中提 取的硅制成的。地球上有大量的硅,可以稳
了解更多2024年3月4日 · 导 读 刻蚀设备是晶圆制造第二大设备,重要性仅次于光刻机,占整体前道设备价值量的22%。随着多重掩膜、大马士革工艺应用以及存储芯片内3D叠堆等技术加速渗透,刻蚀设备在半导体制造中的需求量和重要性不断上升。逻辑芯片不断突破,先进的技术工艺刻蚀次数也不断提升,对刻蚀设备的数量和质量...
了解更多2024年9月5日 · 晶圆锯切技术有三种:刀片切割、激光切割和等离子切割。 刀片切割是指用金刚石刀片切割晶圆,这种方法容易产生摩擦热和碎屑并因此损坏晶圆。 激光切割的精确度更高,能轻松处理厚度较薄或划片线间距很小的 晶 圆。
了解更多13 小时之前 · 半导体晶圆制造是现代电子产业中不可或缺的一环,它是整个电子行业的基础。这项工艺的流程非常复杂,包含了很多步骤和技术,下面将详细介绍其主要的制造工艺流程。第一名
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